第981章 nm和N＋1（2 / 2）

“代价是工艺步骤复杂度成倍增加，生产周期大幅拉长，初始良率惨不忍睹，以及单个芯片成本的急剧飙升！

代价是在冯总和陈总不遗余力的配合下，今年三月把良品率才很勉强得提高到了，目前还在艰难爬坡中！

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这是一种‘笨’办法，一种‘苦’办法！

但，这是我们唯一能掌握能通向自主高端的生命线！”

他看向汪剑锋，又看向陈默：

“所以，汪总，您问最大的挑战和需要什么支持？

挑战在于，我们需要在工艺、设计、工具链三个维度，同时进行极限突破，容不得任何一块短板！

需要的支持是，集团必须持续给予我们越常规的耐心、资源和政策倾斜，理解并接受n+初期在成本和效率上的‘不完美’。”

孟良凡的陈述，将n+之路的艰难与决绝展现得淋漓尽致。

他将目光投向陈默，眼神中充满了“神兵利器”

的渴求，也带着并肩作战的战友的期待与挑战。

“陈总，”

孟良凡的语气无比郑重。

“您也知道n+的艰难。

这条路，对eda工具链的要求，是颠覆性的。

它要求工具不再是被动适应规则，而是要主动驱动设计、预测制造、赋能工艺！”

他转向全场，详细列举出n+给eda带来的具体、严峻的挑战，每一项都直指核心：

“第一，设计规则的复杂性与强制性。

多重曝光导致设计规则数量爆炸式增长，且规则之间关联性极强。

eda工具必须能理解、消化并强制推行这套‘天书’，还能智能识别和规避规则冲突，否则版图根本无法制造。”

“第二，模型精度必须逼近物理极限。

在n+尺度下，量子效应、统计涨落效应凸显。

我们需要原子级精度的器件模型，需要电-热-力多物理场耦合仿真平台。

模型失之毫厘，流片结果可能谬以千里！”

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